대만 검찰, 'TSMC 2나노 기밀유출' 3명 기소…최고 14년 구형
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작성자 최고관리자 댓글 0건 조회 6회 작성일 25-09-01 11:15본문
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TSMC 로고[로이터 연합뉴스 자료사진. 재판매 및 DB 금지]
(서울=연합뉴스) 차병섭 기자 = 대만 검찰이 세계 최대 파운드리(반도체 위탁생산) 업체 TSMC의 최첨단 2㎚(나노미터·10억분의 1m) 공정 기밀 유출 사건과 관련해 엔지니어 3명을 기소했다.
27일(현지시간) 자유시보·대만중앙통신 등에 따르면 대만 고등검찰서 지적재산권분서는 이날 국가보안법상 '국가핵심 주요기술 영업비밀의 역외사용' 혐의 등을 적용해 3명을 기소했다고 밝혔다.
검찰은 이들에게 각각 징역 14년, 9년, 7년을 구형했다.
검찰은 "대만 반도체업계의 국제 경쟁력을 심각히 위협하는 사건"이라고 밝혔다.
앞서 TSMC가 지난달 8일 고소장을 제출했고 검찰은 조사를 거쳐 이달 6일 이들을 구속했다.
TSMC에서 퇴직 후 도쿄일렉트론으로 이직한 천 모씨가 TSMC에서 일하던 다른 2명으로부터 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 기술 도면을 넘겨받았다는 것이 대만 검찰 설명이다. 유출된 도면은 약 1천여장 수준이다.
대만 국민기업이라고 할 수 있는 TSMC의 핵심 기술이 일본 기업으로 유출됐을 가능성까지 제기되면서 대만 사회는 충격을 받은 상태다.
bscha@yna.co.kr
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